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목 표

다상소재의 위치선택적 고신뢰성 균질분포 공정 구현 및 이를 통한 고부가가치 소자의 한계돌파 기능과 양산화 기술 구현
  • 1단계 목표 : 다상소재의 고신뢰성 균질분포 공정 구현 및 고부가가치 소자 생산 기술의 고도화
  • 2단계 목표 : 위치선택적으로 분포가 제어된 다상소재 기반 대면적화 공정 플랫폼 개발 및 이를 통한 고부가가치 소자의 기능적 한계돌파
다상소재의 고신뢰성 균질분포 공정 구현 및 고부가가치 소자 생산 기술의 고도화

1단계에서 1그룹은 Cyber-Physical 공정 제어(in-situ process)를 기반으로 한 지능형 생산 플랫폼을 구축하고, 다상소재의 고신뢰성 정밀 균일분포 공정을 개발하는 것을 목표로 합니다. 2그룹은 기판 형상 및 표면 특성 제어기술(pre-process)과 고상화 계면 특성 제어기술(post-process)을 개발하며, 이를 통해 고부가가치 소자의 고도화와 생산성을 확보하고자 합니다.

위치선택적으로 분포가 제어된 다상소재 기반 대면적화 공정 플렛폼 개발 및 이를 통한 고부가가치 소자의 기능적 한계돌파

2단계에서 1그룹은 Cyber-Physical 능동공정(in-situ process) 기술을 기반으로 생산 플랫폼을 고도화하고, 생산 규모의 확장이 가능한 다상소재의 초정밀 위치선택적 분포제어 공정을 개발하는 것을 목표로 합니다. 2그룹은 Pre-/Post-process의 고도화와 지능형 생산공정에 기반한 한계돌파형 소자의 제작, 기능 검증, 및 양산화 기술을 개발하는 데 중점을 둡니다.

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